К вопросу определения глубины модифицированного слоя, формируемого обработкой импульсным тлеющим разрядом
| dc.contributor.author | Юманова, А. Н. | |
| dc.contributor.author | Шеменков, В. М. | |
| dc.date.accessioned | 2025-01-21T13:43:48Z | |
| dc.date.available | 2025-01-21T13:43:48Z | |
| dc.date.issued | 2023 | |
| dc.description | глубина модифицированного слоя | |
| dc.description | определение глубины | |
| dc.description | слои изделий | |
| dc.description | изделия | |
| dc.description | поверхностные слои | |
| dc.description | модифицированные слои | |
| dc.description | обработка импульсным тлеющим разрядом | |
| dc.description | формирование модифицированных слоев | |
| dc.description | формирование обработкой | |
| dc.description.abstract | ||
| dc.format.mimetype | application/pdf | ru-RU |
| dc.identifier.citation | Юманова, А. Н. К вопросу определения глубины модифицированного слоя, формируемого обработкой импульсным тлеющим разрядом / А. Н. Юманова, В. М. Шеменков // Тезисы докладов 56-й Международной научно-технической конференции преподавателей и студентов / УО "ВГТУ". - Витебск, 2023. - С. 246-247. | ru-RU |
| dc.identifier.issn | ru-RU | |
| dc.identifier.uri | https://rep.vstu.by/handle/123456789/20153 | |
| dc.language.iso | rus | ru-RU |
| dc.publisher | Витебский государственный технологический университет | ru-RU |
| dc.source | Тезисы докладов 56-й Международной научно-технической конференции преподавателей и студентов / УО "ВГТУ" | ru-RU |
| dc.title | К вопросу определения глубины модифицированного слоя, формируемого обработкой импульсным тлеющим разрядом | ru-RU |
| dc.type | Article | ru-RU |